Semiconductores

Aplicaciones innovadoras

Los sistemas de calentamiento rápidos y extremadamente precisos de watttron permiten un control exacto de la temperatura hasta el rango subkelvin.

Full Contact Wafer Probing

Control de temperatura con resolución espacial incluso con fuentes de calor externas

Ventajas

Post Exposure Bake

Calentamiento y enfriamiento con alta homogeneidad de temperatura

Ventajas

Hybrid and Thermocompression Bonding

Sistemas de control térmico con rápidas tasas de calentamiento y enfriamiento

Ventajas

Warpage Correction

Sistemas de calentamiento para la corrección de deformaciones

Ventajas

Glass Panel Processing

Ventajas

La tecnología de calentamiento digital de watttron

La tecnología de calentamiento digital de watttron es un sistema de calentamiento innovador que permite un control de temperatura preciso y local mediante una disposición de píxeles de calentamiento controlables individualmente. Los píxeles de calentamiento son a la vez sensores de temperatura y permiten un control en tiempo real de la distribución de temperatura. Esta tecnología innovadora se desarrolló originalmente para el procesamiento de plásticos en el ámbito de los envases de consumo y es ideal para aplicaciones de semiconductores que requieren una gestión térmica de alta precisión. Por ejemplo, en el procesamiento de obleas o en la fabricación de componentes microelectrónicos, un control exacto de la temperatura es de importancia decisiva para garantizar la calidad del producto y el rendimiento.

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Características clave de la tecnología de calentamiento digital

Rápidas tasas de enfriamiento:
en combinación con elementos de refrigeración (actualmente principalmente refrigeración por agua) hasta 100 K/s

Tasas de calentamiento extremadamente altas:
debido a la baja masa térmica del píxel de calentamiento, hasta 850 K/s

Calentamiento preciso:
mantenimiento de una precisión de temperatura de 0,1 K para cada píxel, incluso durante la fase de calentamiento

Amplio rango de temperatura:
de 35 °C (o más frío, en combinación con un sistema de refrigeración) hasta 700 °C

Gradientes de temperatura extremadamente altos:
en combinación con refrigeración, es posible alcanzar y mantener una diferencia de temperatura permanente de 280 K en una distancia de 1 cm

Alta densidad de potencia de calentamiento:
hasta 180 W/cm²

Materiales inertes:
el sistema de materiales se ha diseñado para presentar bajas características de desgasificación, lo que lo hace adecuado para salas limpias y UHV

Supervisión de proceso en línea:
la supervisión continua de la potencia eléctrica necesaria para mantener la temperatura especificada de cada píxel de calentamiento permite detectar desviaciones del proceso

Funcionalidades ampliables:
como los elementos calefactores se desarrollan internamente, existe la posibilidad de integrar funciones adicionales como microactuadores o VIAs

Escalabilidad:
gracias al concepto modular, los sistemas de calentamiento se pueden adaptar a diferentes herramientas y tamaños de equipo. Tamaño típico de un píxel de calentamiento: cuadrado de 5 mm × 5 mm, aunque también son posibles otras formas y tamaños

Control en tiempo real:
sensores de temperatura integrados y cercanos al proceso garantizan condiciones de proceso constantes

Hardware de control integrado:
funcionamiento mediante interfaz de usuario (GUI) o protocolos como EtherNet/IP, ModbusTCP, MQTT, ProfiNet

Sistema completo:
incluye elemento calefactor, unidad de control e interfaz de usuario para un funcionamiento sin interrupciones

Soporte mundial:
servicio fiable, estés donde estés

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