Semiconductores

Aplicaciones innovadoras

La gestión térmica rápida y extremadamente precisa de watttron permite una regulación exacta de la temperatura hasta el rango subkelvin.

Full Contact Wafer Probing

Control de temperatura con resolución espacial incluso con fuentes de calor externas

Ventajas

Post Exposure Bake

Calentamiento y enfriamiento con alta homogeneidad de temperatura

Ventajas

Hybrid and Thermocompression Bonding

Sistemas de control térmico con rápidas tasas de calentamiento y enfriamiento

Ventajas

Warpage Correction

Sistemas térmicos para la corrección de la deformación

Ventajas

Glass Panel Processing

Ventajas

Gestión térmica inteligente de watttron

La gestión térmica inteligente de watttron es un sistema de termorregulación innovador que permite un control de temperatura preciso y local mediante una disposición de termoelementos controlables individualmente. Los píxeles de calentamiento son, al mismo tiempo, sensores de temperatura y permiten una regulación en tiempo real de la distribución térmica. Esta tecnología innovadora se desarrolló originalmente para el procesamiento de plásticos en el sector del embalaje de consumo y resulta ideal para aplicaciones de semiconductores que requieren una gestión térmica de alta precisión. Por ejemplo, en el procesamiento de obleas o en la fabricación de componentes microelectrónicos, un control exacto de la temperatura es de vital importancia para garantizar la calidad del producto y el rendimiento.

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Características clave de la gestión térmica inteligente

Rápidas tasas de enfriamiento:
en combinación con elementos de refrigeración (actualmente principalmente refrigeración por agua) hasta 100 K/s

Tasas de calentamiento extremadamente altas:
debido a la baja masa térmica del píxel de calentamiento, hasta 850 K/s

Control de temperatura preciso:
Mantenimiento de una precisión de temperatura de 0,1 K para cada píxel, incluso con cambios dinámicos de temperatura

Amplio rango de temperatura:
de 35 °C (o más frío, en combinación con un sistema de refrigeración) hasta 700 °C

Gradientes de temperatura extremadamente altos:
en combinación con refrigeración, es posible alcanzar y mantener una diferencia de temperatura permanente de 280 K en una distancia de 1 cm

Alta densidad de potencia:
hasta 180 W/cm²

Materiales inertes:
el sistema de materiales se ha diseñado para presentar bajas características de desgasificación, lo que lo hace adecuado para salas limpias y UHV

Supervisión de proceso en línea:
la supervisión continua de la potencia eléctrica necesaria para mantener la temperatura especificada de cada píxel de calentamiento permite detectar desviaciones del proceso

Funcionalidades ampliables:
como los elementos calefactores se desarrollan internamente, existe la posibilidad de integrar funciones adicionales como microactuadores o VIAs

Escalabilidad:
gracias al concepto modular, los sistemas de calentamiento se pueden adaptar a diferentes herramientas y tamaños de equipo. Tamaño típico de un píxel de calentamiento: cuadrado de 5 mm × 5 mm, aunque también son posibles otras formas y tamaños

Control en tiempo real:
sensores de temperatura integrados y cercanos al proceso garantizan condiciones de proceso constantes

Hardware de control integrado:
funcionamiento mediante interfaz de usuario (GUI) o protocolos como EtherNet/IP, ModbusTCP, MQTT, ProfiNet

Sistema completo:
incluye elemento calefactor, unidad de control e interfaz de usuario para un funcionamiento sin interrupciones

Soporte mundial:
servicio fiable, estés donde estés

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