Semi-conducteurs

Applications innovantes

Les systèmes de chauffage rapides et extrêmement précis de watttron permettent une régulation exacte de la température jusqu’au domaine sub-kelvin.

Full Contact Wafer Probing

Régulation thermique à résolution spatiale, même avec des sources de chaleur externes

Avantages

Post Exposure Bake

Chauffage et refroidissement avec une homogénéité de température élevée

Avantages

Hybrid and Thermocompression Bonding

Systèmes de régulation thermique avec des taux de chauffage et de refroidissement rapides

Avantages

Warpage Correction

Systèmes de chauffage pour la correction du gauchissement

Avantages

Glass Panel Processing

Avantages

La technologie de chauffage numérique de watttron

La technologie de chauffage numérique de watttron est un système de chauffage innovant qui permet une régulation précise de la température, contrôlée localement par une disposition de pixels chauffants pilotables individuellement. Les pixels chauffants servent simultanément de capteurs de température et permettent une régulation en temps réel de la distribution thermique. Cette technologie innovante a été initialement développée pour la transformation des plastiques dans le secteur de l’emballage grand public et convient idéalement aux applications de semi-conducteurs nécessitant une gestion thermique de haute précision. Par exemple, lors du traitement des wafers ou de la fabrication de composants microélectroniques, une régulation exacte de la température est d’une importance cruciale pour garantir la qualité du produit et le rendement.

Espacement 120-60px

Caractéristiques clés de la technologie de chauffage numérique

Vitesses de refroidissement rapides :
en combinaison avec des éléments de refroidissement (actuellement principalement par eau) jusqu’à 100 K/s

Vitesses de chauffe extrêmement élevées :
jusqu’à 850 K/s grâce à la faible masse thermique du pixel chauffant

Chauffage précis :
maintien d’une précision de température de 0,1 K pour chaque pixel, même pendant la phase de chauffe

Large plage de température :
de 35 °C (ou plus froid, en combinaison avec un système de refroidissement) jusqu’à 700 °C

Gradients de température extrêmement élevés :
en combinaison avec le refroidissement, il est possible d’atteindre et de maintenir une différence de température permanente de 280 K sur une distance de 1 cm

Haute densité de puissance de chauffage :
jusqu’à 180 W/cm²

Matériaux inertes :
le système de matériaux a été conçu pour présenter de faibles caractéristiques de dégazage, ce qui le rend adapté aux salles blanches et à l’UHV

Surveillance du processus en ligne :
la surveillance continue de la puissance électrique nécessaire au maintien de la température définie de chaque pixel chauffant permet de détecter les dérives du processus

Fonctionnalités extensibles :
les éléments chauffants étant développés en interne, il est possible d’intégrer des fonctions supplémentaires telles que des micro-actionneurs ou des VIAs

Évolutivité :
grâce au concept modulaire, les systèmes de chauffage sont adaptables à différents outils et tailles d’appareils. Taille typique d’un pixel chauffant : carré de 5 mm × 5 mm, bien que d’autres formes et tailles soient possibles

Contrôle en temps réel :
des capteurs de température intégrés et proches du processus garantissent des conditions de processus constantes

Matériel de commande intégré :
fonctionnement via une interface utilisateur (GUI) ou des protocoles tels que EtherNet/IP, ModbusTCP, MQTT, ProfiNet

Système complet :
comprenant l’élément chauffant, l’unité de commande et l’interface utilisateur pour un fonctionnement fluide

Support mondial :
un service fiable, où que vous soyez

Ceci pourrait également vous intéresser :

Merci pour votre demande.

Votre équipe Watttron vous contactera dans les plus brefs délais.